BASE
MEMS設計・プロセス
開発実証拠点
オープンコラボレーションが
研究開発と人材育成を加速させる
「試作コインランドリ」
本拠点は、MEMS分野で国内最大、世界屈指のR&D拠点で、研究から社会実装まで、また、材料·プロセス開発、設計、試作、評価に至る工程を一気通貫で推進します。小片から最大200mmまで対応するオープンな試作ラインを用いて、MEMS、高周波デバイス、光デバイスなど、多用途の研究開発が可能です。経験豊富なスタッフの支援のもとですべての工程が経験できるため、開発と同時に人材も育成されます。
受賞歴
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第四回微細加工プラットフォーム優秀貢献賞(平成29年)
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第二回微細加工プラットフォーム貢献賞(平成27年)
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平成二十五年度経済産業大臣賞産学連携功労者表彰
拠点の強み
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01
“ミスター半導体”と称された西澤潤一博士が名誉所長を務めた半導体研究所だった建物を活かし1,800㎡のクリーンルームを有し、MEMSを中心とした半導体製造装置を150台以上整備しています。
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02
電子工作や機械加工にも対応しており、半導体デバイスの試作·評価·実装まで一貫して行える環境を整備しています。企業と連携しながら、実用化を支援しています。
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03
蓄積されたノウハウと経験豊富なスタッフによる技術支援を行っております。
拠点
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スピントロニクス省電力
ロジック半導体開発拠点スピントロニクス技術を用いた省電力グリーンロジック半導体・AIプロセッサ、次世代型混載メモリ(MRAM)の設計・試作実証・評価とそのシステム開発
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半導体製造プロセス・部素材・
イメージセンサ開発実証拠点ウルトラクリーンプロセス技術・イメージセンサ技術を基軸とした「製造中の極小パーティクル計測」「ガスフロー可視化」「部素材の超クリーン化」「極限性能イメージセンサの開発・試作実証」「配線材料開発」
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MEMS設計・プロセス
開発実証拠点自動運転車等に必須の慣性センサ、フォトニクス、通信デバイス等のデバイスや高度実装技術について、研究開発、技術評価・試作
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