BASE
半導体製造プロセス・部素材・イメージセンサ開発実証拠点
デバイス試作、プロセス・材料開発 / 評価 / 試験
~試行実験レベルから試作評価レベルまで、多様な研究・開発ニーズに対応可能~
本拠点は、世界トップのインフラ·ユーティリティーを備え、それらの共有化を図ることで、最先端のデバイス、材料、装置、部素材等に関する研究開発を産学連携により総合的·同時並行的に推進して実用化社会実装へとつなぐ、チャレンジングなオープンイノベーションの場を提供します。
拠点の強み
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未来情報産業研究館4Fクリーンルームの実験装置群
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研究者の紹介
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教授
黒田 理人 | Rihito Kuroda
人間の目を凌駕する高感度・広ダイナミックレンジ・高速・広光波長帯域・高信頼性を有するイメージセンサおよび高性能半導体デバイスの開発・実用化を推進しています.半導体製造プロセス向けの高度なセンシング応用や東北放射光施設で使用される世界最高性能の軟X線検出器の実用化も進めています.
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教授
白井 泰雪 | Yasuyuki Shirai
東北大学が長年培い世界をリードしてきた先端半導体グレードのウルトラクリーン装置部素材開発,脱ガス・パーティクル汚染計測評価技術を深化発展させています.これらのインフラ技術は先進の半導体分野を支える基盤技術となるだけでなく,異業種の製造業にも展開させています.また,オープンイノベーションの場としてクリーンルーム施設・装置を提供しています.
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教授
須川 成利 | Shigetoshi Sugawa
世界的にも卓越した先端クリーンルーム施設を有するNICHe未来情報産業研究館を活用して,我が国の強みであるシリコン半導体部素材・製造装置技術およびイメージセンサ・デバイス技術の一層の競争力強化と新たな分野開拓に向けた産学連携実用化開発を推進しています.
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特任教授
高橋 正好 | Masayoshi Takahashi
マイクロ・ナノバブル水のメカニズムを探求しつつ半導体ウェットプロセス,部素材の洗浄さらには半導体工場の付帯設備への応用展開について開発を行っています.
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特任教授
諏訪 智之 | Tomoyuki Suwa
高性能半導体の製造に要求されるプロセス技術開発を中心に研究開発をしています.微細かつ複雑形状への原子層レベルで制御可能な成膜技術・表面制御技術の開発等に加え,X線を用いた計測分析技術を駆使し,産学連携により先端微細半導体製造向けプラズマ装置・プロセス技術の開発に取り組んでいます.
拠点
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スピントロニクス省電力
ロジック半導体開発拠点スピントロニクス技術を用いた省電力グリーンロジック半導体・AIプロセッサ、次世代型混載メモリ(MRAM)の設計・試作実証・評価とそのシステム開発
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半導体製造プロセス・部素材・
イメージセンサ開発実証拠点ウルトラクリーンプロセス技術・イメージセンサ技術を基軸とした「製造中の極小パーティクル計測」「ガスフロー可視化」「部素材の超クリーン化」「極限性能イメージセンサの開発・試作実証」「配線材料開発」
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MEMS設計・プロセス
開発実証拠点自動運転車等に必須の慣性センサ、フォトニクス、通信デバイス等のデバイスや高度実装技術について、研究開発、技術評価・試作
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