MEMS設計・プロセス開発実証拠点
本拠点は、MEMS分野で国内最大、世界屈指のR&D拠点で、研究から社会実装まで、また、材料・プロセス開発、設計、試作、評価に至る工程を一気通貫で推進します。
小片から最大200mmまで対応するオープンな試作ラインを用いて、MEMS、高周波デバイス、光デバイスなど、多用途の研究開発が可能です。経験豊富なスタッフの支援のもとですべての工程が経験できるため、開発と同時に人材も育成されます。
本拠点は、MEMS分野で国内最大、世界屈指のR&D拠点で、研究から社会実装まで、また、材料・プロセス開発、設計、試作、評価に至る工程を一気通貫で推進します。
小片から最大200mmまで対応するオープンな試作ラインを用いて、MEMS、高周波デバイス、光デバイスなど、多用途の研究開発が可能です。経験豊富なスタッフの支援のもとですべての工程が経験できるため、開発と同時に人材も育成されます。