高性能半導体の製造に必要不可欠なプラズマ技術を中心に研究開発をしています．極めて活性なラジカルを高効率に利用可能なプラズマ源の創出，複雑形状への原子層レベルで制御可能な成膜技術開発等に加え，プラズマ計測技術，評価技術を駆使し，産学連携により先端微細半導体製造向けプラズマ装置・プロセス技術の開発に取り組んでいます．