高性能半導体の製造に要求されるプロセス技術開発を中心に研究開発をしています．微細かつ複雑形状への原子層レベルで制御可能な成膜技術・表面制御技術の開発等に加え，X線を用いた計測分析技術を駆使し，産学連携により先端微細半導体製造向けプラズマ装置・プロセス技術の開発に取り組んでいます。