FACILITY
-
国際集積エレクトロニクス研究開発センター（CIES）
約1,900㎡ CR、300mmウェハライン
-
未来科学技術共同研究センター(NICHe)
未来情報産業研究館
プロセスフロア面積：739㎡／630㎡ (P2／P1)
-
マイクロシステム融合研究開発センター(μSIC)(西澤潤一記念研究センター)
1,800㎡のスーパーCR、4/6インチウェハでの試作開発可能、先端融合実験室（3階CR）
-
マテリアル・イノベーション・センター
本学研究者、大学発ベンチャー等が入居する材料科学分野のオープンイノベーション拠点 約400㎡
-
量子科学研究開発機構 次世代放射光施設
2023年稼働予定
-
工学研究科・電子情報システム・応物系2号館
350㎡
-
マイクロ・ナノマシニング研究教育
センター マイクロマシニング棟
750㎡（600㎡+150㎡）
-
電気通信研究所・ナノ・スピン実験施設
1,400㎡
