FACILITY
国際集積エレクトロニクス研究開発センター
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約1,900㎡ CR、300mmウェハライン
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世界で唯一の300mmプロセス対応試作ライン
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チップ実証・評価に対応する各種評価解析装置群
未来科学技術共同研究センター
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プロセスフロア面積：739㎡／630㎡ (P2／P1)
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未来情報産業研究館４Fクリーンルームの実験装置群
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マイクロシステム融合研究開発センター
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1,800㎡のスーパーCR、4/6インチウェハでの試作開発可能、先端融合実験室（3階CR）
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“ミスター半導体”と称された西澤潤一博士が名誉所長を務めた半導体研究所だった建物を活かし1,800㎡のクリーンルームを有し、MEMSを中心とした半導体製造装置を150台以上整備しています。
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電子工作や機械加工にも対応しており、半導体デバイスの試作·評価·実装まで一貫して行える環境を整備しています。企業と連携しながら、実用化を支援しています。
マテリアル・イノベーション・センター
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本学研究者、大学発ベンチャー等が入居する材料科学分野のオープンイノベーション拠点 約400㎡
3GeV高輝度放射光施設NanoTerasu
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官民地域パートナーシップで運営
